九峰山实验室与华中科技大学联合研究团队最近在光刻胶领域取得突破性进展。他们成功研发了一种具有自主知识产权的“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，并在产线上进行了初步工艺验证和技术指标的检测优化。这一成果不仅实现了从技术开发到产业化的全链条打通，而且填补了我国在高端光刻胶领域的空白。光刻胶是光刻工艺的关键材料之一，广泛应用于PCB、LCD/OLED面板和半导体领域。

半导体光刻胶是其中壁垒最高的一类，市场增速也高于整体光刻胶市场。根据SEMI数据，2022年全球半导体光刻胶市场规模为26.4亿美元，同比增长6.82%，而我国半导体光刻胶市场规模为5.93亿美元，同比增长20.47%，增速远高于全球平均水平。然而，目前全球半导体光刻胶市场主要由日系及美韩厂商垄断，而我国的半导体光刻胶自给率较低。KrF光刻胶的自给率不足5%，ArF光刻胶更是不足1%。因此，我国迫切需要实现高端半导体光刻胶的国产化，以减少对海外厂商的依赖。在这一背景下，南大光电(300346)成为了备受关注的公司之一。

南大光电成立于2000年，主要业务涵盖先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料等领域。公司在电子材料方面取得了良好的成绩，推进了ArF光刻胶产业化。目前，南大光电的两款ArF光刻胶已通过客户验证，多款光刻胶正在验证过程中。此外，公司还承担了国家科技重大专项“先进光刻胶产品开发与产业化”项目，并已通过验收。近期，南大光电的股价表现强于创业板指数，底部有明显的堆量迹象，吸引了资金的关注。一旦市场情绪转好，南大光电有望获得超额收益。因此，该公司的股票值得重点跟踪。

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